활성탄 흡착 은 다른 원리에 따라 물리적 흡착과 화학적 흡착으로 나눌 수 있습니다. 물리적 흡착은 분자 사이의 반 데르 발스 힘에 의해 발생합니다. 고체 표면의 분자는 내부 분자와 다르기 때문에, 남아있는 표면 자유 력 장이있다. 가스 분자가 고체 표면 부근으로 이동하면 활성탄이 다공성 물질 인 동안 고체 분자가 끌어 당겨 고체 표면에 머무르며, 복잡한 기공 구조는 고체의 표면적과 표면을 크게 증가시킵니다. 에너지가 크게 향상되어 재료의 흡착 능력이 현저히 향상됩니다. 화학 흡착은 화학 결합력에 의해 발생합니다. 고체 표면에서 화학 반응이 일어날 때, 화학 반응은 흡착 된 분자의 전자 궤도 모드를 변화 시키므로 원래의 종으로 회복하기 어렵고 돌이킬 수없는 과정이다.
활성탄 배기 가스 탈황 방법은 물리적 흡착과 화학적 흡착의 동시 과정입니다. 활성탄 표면에는 일련의 화학 반응이 있습니다. 그러나, 활성탄 표면의 복잡성으로 인해, 2 가지 주요 유형을 포함하여 활성탄 탈황에 대한 많은 종류의 원리가 존재한다. 활성탄은 O 2 와 소량의 수증기 존재 하에서 SO 2 를 제거 할 수 있다고 생각합니다. 다른 하나는 이온 교환 흡착 원리와 전 계층 흡착 원리입니다.
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