활성탄에 대한 회분 함량의 영향
활성탄에는 많은 매개변수가 있으며 회분 함량은 요오드 값과 같은 매개변수를 제외하고 활성탄의 성능에 큰 영향을 미칩니다. 회분 함량이 활성탄의 제조, 기공 구조 및 전기화학적 특성에 미치는 영향은 다음에서 논의되었습니다.
회분 함량이 에 미치는 영향생산 과정활성탄
회분은 주로 K2O, Na2O, CaO, MgO, Fe2O3, Al2O3, P2O5, SO3, Cl- 및 기타 성분을 포함하는 활성탄의 무기 부분을 나타냅니다. 활성화의 기본 원리는 활성화제가 탄소 원자와 반응하고 탄소 원자를 소비하여 휘발성 가스를 형성하여 기공 구조를 형성한다는 것입니다. 전체 활성화 과정에서 회분은 유익한 효과가 거의 없으며 원료의 회분이 모두 활성탄으로 옮겨져 고정 탄소 함량이 감소하고 활성탄의 흡착 성능에 영향을 미칩니다.
활성탄의 기공 구조에 대한 회분 함량의 영향
활성탄에 재의 존재는 일부 기공을 차단하고 재의 제거는 일부 새로운 기공, 특히 미세 기공을 형성할 수 있습니다. 수증기가 활성제로 사용될 때 원료의 회분 함량이 높으면 활성탄은 더 큰 기공, 더 많은 중간 및 큰 기공, 더 낮은 비표면적을 갖습니다. 활성탄의 제조 과정은 일반적으로 세 단계로 나뉩니다. 많은 수의 미세 구멍을 생성하는 개방 단계; 리밍 단계에서는 많은 수의 중간 기공이 생성됩니다. 새로운 구멍을 만드는 단계에서 큰 구멍과 새로운 미세 구멍이 생성됩니다.
활성탄의 전기화학적 특성에 대한 회분 함량의 영향
회분 함량은 슈퍼커패시터의 낮은 전기화학적 성능과 낮은 안정성의 중요한 원인입니다. Ash는 이중 전기층에서 용액으로 이온의 확산을 촉진합니다. 이중 전기층의 붕괴를 가속화하고 누설 전류 및 자체 방전을 증가시키며 이중 전기층의 안정성을 감소시킵니다. 회분의 존재는 초용량 활성탄의 정전용량 값과 비율 특성을 감소시킬 것이다. 저회 활성탄의 표면 친수성은 고회 활성탄의 표면 친수성보다 강하여 이중 전기층의 형성을 촉진할 수 있습니다.
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활성탄의 데쉬 타임 선택
활성탄의 품질을 향상시키는 중요한 방법 중 하나는 활성탄의 효과적인 심층 파괴를 위한 적절한 시기를 선택하는 것입니다. 활성탄 탈산은 주로 초기, 중기 및 후기의 3단계로 진행됩니다. 조기 탈회는 활성탄을 생산하기 전에 원료를 탈회하는 것을 말하지만 처리량이 많다. 중간 deash는 활성탄의 준비 과정을 복잡하게 하므로 거의 채택되지 않습니다. Late deash는 활성탄이 완성된 후이며, 이는 또한 널리 채택되고 있습니다. 요컨대, deash 타이밍의 선택은 원료 자체의 특성, 준비 과정 및 활성탄의 적용 및 기타 측면을 고려해야 합니다.
활성탄을 생산하는 과정에서 회분의 존재는 필요한 활성제의 증가로 이어지고 시간이 길어지고 그에 따라 온도가 높아집니다. 회분은 활성제와 탄소 원자의 접촉을 방해하고, 활성화를 억제하며, 기공의 발달과 변화에 영향을 미칩니다.
초순도 활성탄을 얻기 위해서는 적절한 제거 시기와 방법의 선택과 함께 원료, 제조 기술 및 적용 등 많은 요소를 고려해야 합니다. 완전한 활성화를 전제로 활성제의 양을 줄이고 큰 공극 크기의 활성탄을 얻으려면 조기 deash를 고려할 수 있습니다. 원료의 회분 함량이 낮아 제거가 어렵고, 기공 크기가 작은 활성탄을 원하는 경우에는 후기 탈회를 고려할 수 있다.
